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第68回日本物理学会

3 月 26日 - 29日、広島大学にて第68回日本物理学会が行われました。内海有希、黒田健太、岡本和晃、白井開渡、永田偉士、計5名が参加し最新の研究成果を発表しました。

内海有希:YbNi3X9(X = Al, Ga)の角度分解光電子分光

黒田健太:バルクキャリアドーピングによるTBiSe2トポロジカル表面状態のスピンヘリシティ制御

岡本和晃:トポロジカル絶縁体GeBi2Te4のスピン角度分解光電子分光

白井開渡:トポロジカル絶縁体TiBiSe2のバルクキャリア制御された単結晶育成と表面状態の観測

永田偉士:La/W(110)の高分解能角度分解光電分光
広島大学 理学部・理学研究科 物理科学専攻

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