12 月 10,11 日、東京工業大学大岡山キャンパスで放射光表面科学部会、顕微ナノ材料科学研究会合同シンポジウムが開催された。光物性研究室からは D3 の叶茂、M2 の黒田健太が参加し、トポロジカル絶縁体に関する研究発表を行いました。このジンポジウムで黒田が最優秀ポスター賞を受賞した。

発表タイトル

招待講演　　叶茂
「Surface states of topological insulators studied by scanning tunneling microscopy/spectroscopy and angle-resolved photoemission spectroscopy」

ポスター発表 　黒田健太　　最優秀ポスター賞
「三元トポロジカル絶縁体 TlBiSe₂ における理想的なディラック表面状態」